本学大学院生が国際会議でBest Poster Awardを受賞

更新日: 2013年07月18日

本学大学院生が7月10日から12日にかけて京都リサーチパークで開催された国際会議The 12th International Symposium on Sputtering & Plasma Process (ISSP 2013)においてThe Best Poster Awardを受賞しました。

学長と梁池昂生

受賞題目 :  In situ formation of aluminum germanate interlayer for high-k/Ge metal-oxide-semiconductor structures by atomic layer deposition with trimethylaluminum and microwave-generated atomic oxygen
受賞者 : 諏訪東京理科大学大学院 博士前期課程1年 梁池 昂生
受賞日 : 2013年7月12日
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